摘 要：随着光电产业的飞速发展，透明导电薄膜进入了人们的视野。作为光电子器件的关键电极材料，在平面显示、触摸屏、薄膜太阳能电池等领域具有巨大的市场需求。开发新型透明导电薄膜，对未来我国光电子产业的发展意义重大。本文综述了我国透明导电薄膜的产业、技术现状以及应用，简单介绍了五种薄膜制备工艺技术并进行优缺点对比。着重讨论了利用磁控溅射法制备CdO基薄膜，通过改变薄膜中铟的含量，从而提高太阳能电池的光利用率。最后，对透明导电薄膜的发展趋势进行了展望。

关键词:透明导电薄膜，研究进展，制备工艺，太阳能电池，发展趋势

目录

摘要

Abstract

1 透明导电薄膜概述-3

1.1 概述-3

1.2 透明导电薄膜现状-3

1.3 透明导电薄膜的应用-4

2 透明导电薄膜的制备-5

2.1 真空蒸镀法-5

2.2 磁控溅射法-6

2.3 脉冲激光沉积法（PLD）-7

2.4 溶胶-凝胶法（Sol-Gel）-7

2.5 喷雾热解法（SP）-8

2.6 几种制备技术的比较-9

3 基于磁控溅射法的研究分析-10

3.1 实验原理-10

3.2 实验步骤-11

3.3 实验结果与分析-11

结论-15

参 考 文 献-16

致 谢-17